năm 1984 công ty thành lập là liên doanh giữa ASM International ở Hà Lan và Philips
máy đầu tiên của ASML ra mắt năm 1985 máy bước [stepper] PAS 2000
máy bước là thiết bị giống như một máy chiếu slide: trình chiếu một thiết kế lên một wafer silic
PAS 2000 được ASML làm 50 chiếc
10 năm đầu hoạt động khó khăn của ASML trong mảng quang khắc bán dẫn, 6 năm đầu thua lỗ
năm 1990 công ty bị tách ra [spin-off] làm công ty độc lập
năm 1991 ASML ra mắt sản phẩm đình đám đầu tiên là máy bước i-line
i-line là máy bước sử dụng bước sóng ánh sáng 365 nanomet để xưởng fab in những thiết kế nhỏ và tiếp tục theo đuổi luật Moore
năm 1995 ASML lên sàn chứng khoán
giữa thập niên 2000 công ty ra mắt cặp sản phẩm đình đám
năm 2001 ASML ra mắt hệ thống TWINSCAN trang bị [offer] tính năng tối ưu hoá giúp khách hàng xưởng etch thêm wafer trong cùng một thời gian
Nikon và Canon không thể bắt chước được công nghệ này và đã cho ASML lần đầu vượt mặt
động thái lớn thứ hai đã đến sau chuyển dịch mang tính thế hệ trong kỹ thuật máy quang khắc: quang khắc nhúng - sử dụng nước làm một thấu kính để thu nhỏ bước sóng của laser etch wafer
công nghệ được phát minh bởi Burn Lin thập niên 1980 đã giúp luật Moore đi xa hơn chút mà chưa cần thu nhỏ bước sóng
công nghệ giúp ASML củng cố 83% thị phần
sau đó công ty đầu tư hàng triệu euro vào nghiên cứu phát triển
năm 2003 ngành chuyển tiếp lên ý tưởng sử dụng EUV cho thế hệ mới công cụ quang khắc: quyết định gây tranh cãi và được mang ra tranh luận
EUV không có trở ngại lý thuyết nhưng thực tiễn khó khăn nếu muốn đạt quy mô công nghiệp: nguồn sáng phải được thiết kế lại từ đầu - khách hàng Intel, Samsung và TSMC sẽ phải làm lại công cụ các xưởng fab
một số tranh cãi rằng những kỹ thuật như khắc nhúng và đa mẫu hình [multi-patterning] có thể mang ngành tiến bộ
nhiều thử nghiệm đã làm trước EUV và trở nên lãng phí
ASML ở vị thế có thể cố gắng: tiếp tục phát triển EUV và vẫn hàng đầu thị trường với công nghệ hiện tại
từ năm 2008 đến 2014 ASML đầu tư 4.6 tỷ euro vào nghiên cứu phát triển
đến năm 2010 TSMC, Intel và Samsung đã tin rằng EUV sẽ hái quả ngọt
ASML thấy cơ hội cướp Intel khỏi Nikon nên năm 2012 ASML tuyên bố kế hoạch đồng đầu tư khách hàng: Intel nhận 15% cổ phần ASML với giá 4.1 tỷ đôla - nhưng vì lý do nào đó Intel không yêu cầu độc quyền sản phẩm - động thái khiến nhiều người nhướng mày và cho phép TSMC và Samsung cũng mua vào sau đó
năm 2016 thiết bị EUV đầu tiên được xuất khỏi Hà Lan: hiện thực hoá ý tưởng 30 năm
công nghệ đã trì hoãn 10 năm sau mẫu prototype năm 2007
năm 2012 giám đốc điều hành Eric Meurice giờ đã nghỉ của ASML nói
"chúng tôi chào mừng Intel làm khách hàng đầu tiên đồng ý đóng góp. Kết quả sẽ sẵn sàng cho mọi nhà sản xuất bán dẫn mà không có hạn chế gì"
EUV LLC được thành lập bởi những doanh nghiệp bán dẫn Mỹ như Intel và Micron năm 1997 để đối tác với bộ điện Mỹ cho thương mại hoá những nghiên cứu EUV
EUV LLC đầu tư 250 triệu đôla trong hơn 3 năm những công đoạn đầu và được nhận phí bản quyền [royalty] cho tất cả doanh thu EUV
tháng 2 năm 1999 ASML thương thảo lấy và được nhận một bản quyền từ EUV LLC cho công nghệ EUV
năm 1999 Nikon và Canon vẫn có 54% cổ phần của thị trường quang khắc trong khi ASML có 34%
EUV LLC tham dự đã giúp ASML nhảy vượt tiến bộ Nhật Bản trong EUV và nhận tiền đầu tư từ Intel, TSMC và Samsung
Canon và Nikon không nhận được bản quyền và sau rốt từ chối phát triển EUV đến ngang ngửa: Canon dừng năm 2007 vì lý do tài chính
Nikon vì theo đuổi cải tiến những công nghệ cũ
cũng nhận biết chương trình EUCLIDES của châu Âu theo đuổi EUV nhưng hoá ra không thành công như EUV LLC
TSMC có nhiều máy EUV nhất thế giới nhưng Intel và Samsung cũng mua máy đó
Intel là nhà đầu tư tiên phong khiến EUV hiện thực hoá nhưng Intel và Samsung đều không đạt được hiệu suất [yield] sánh ngang
Không có nhận xét nào:
Đăng nhận xét